2024-11-16 07:25
使用於半導體濕式蝕刻與清洗製程的氫氟酸含有劇毒,素來有「蝕骨水」之稱,其所釋出的氟離子腐蝕力很強,會直接穿透人體組織,造成永久性傷害。因此,製程中所產生之氫氟酸廢水,無法直接排放,必須把含氟廢水經氟酸化混合程序後產生固態狀氟化鈣污泥,再做進一步處理。
2024-11-16 07:20
使用於半導體清洗製程之異丙醇(IPA),是用於晶圓清洗與濕式蝕刻製程之乾燥用溶劑。使用過的「廢異丙醇」溫度約降低5%~15%,傳統廢液處理程序是經過2道蒸餾塔處理,分別是除水蒸餾和破共沸的高純度蒸餾,這些處理完的再生異丙醇純度達到99%,可銷售至塗料業等產業使用。
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