涉嫌向華為洩露核心技術　SK海力士中國籍前員工被捕

南韓半導體巨擘SK海力士（SK hynix）的一名中國籍前員工，因涉嫌向中國華為公司洩露如何提升晶片良率的核心技術相關資訊，已遭到逮捕，目前正在受審。

韓聯社報導，南韓警方今天（5/28）表示，這名30多歲的女子涉嫌違反《防止產業技術洩露及保護法》，上月底入境南韓時被捕，隨後遭檢方起訴，目前正接受法院審判。

報導指，這名中國女子2013年進入SK海力士，任職於分析晶片不良率的部門。她於2020年至22年赴中國分公司擔任主管，負責與客戶洽談，2022年6月回到南韓後，立即跳槽到華為。

據報導，被告自SK海力士離職前，曾列印出有關核心半導體工序問題解決方案的資料，共印了3000多張A4紙。

SK海力士禁止員工使用隨身碟設備，也詳細記錄公司印表機的列印內容、列印人、文件用途等資訊。被告留下了列印文件的記錄，但用途不明。警方認為被告分批將列印的紙張帶出公司，被告則矢口否認。

報導指，警方對被告的行徑展開嚴密調查，上月她入境南韓時，在機場就遭到逮捕。